Substratos de vidro para aplicações de alta precisão

Substratos de vidro TGV

Substratos de vidro com estruturas de passagem através do vidro para interconexão elétrica vertical e integração de pacotes de alta densidade.

Substratos de núcleo de vidro

Soluções com núcleo de vidro rígido e dimensionalmente estável para estruturas de encapsulamento avançadas e interconexão multicamadas.

Substratos de vidro metalizado

Estruturas de circuitos personalizadas em cobre ou metal, formadas em superfícies de vidro, para aplicações eletrônicas, de sensores e ópticas.

Substratos de vidro personalizados

Substratos de vidro específicos para cada aplicação, com espessuras, dimensões, vias, metalização e padrões de circuitos personalizados.

Substratos de vidro para aplicações eletrônicas avançadas

Os produtos eletrônicos e semicondutores modernos exigem plataformas de substrato estáveis ​​para a formação precisa de circuitos, alinhamento de camadas e integração de componentes.

O vidro proporciona uma base lisa, rígida e eletricamente isolante que pode suportar circuitos finos, vias através do vidro e estruturas de metalização personalizadas.

A ALCANTA desenvolve soluções de substrato de vidro de acordo com os requisitos mecânicos, elétricos, ópticos e de montagem de cada aplicação.

✓ Alta estabilidade dimensional

✓ Superfície lisa para formação precisa de circuitos

✓ Capacidade de passagem através do vidro

✓ Metalização e dimensões personalizadas

substrato de vidro absolics

Soluções de substrato de vidro

Interconexão vertical através do vidro

Os furos de passagem através do vidro proporcionam conexões elétricas entre os dois lados de um substrato de vidro e suportam estruturas de encapsulamento multicamadas compactas.

As dimensões, o espaçamento, a relação de aspecto e a metalização são avaliados de acordo com a espessura do vidro selecionada e a aplicação.

Aplicações típicas:

  • Empacotamento Avançado de Semicondutores
  • Interpositores de vidro
  • Módulos Multichip

Capacidade de fabricação de substratos de vidro

Material baseVidro eletrônico específico para aplicações
Linha/Espaço mínimoAté 10 μm / 10 μm
Diâmetro mínimo de passagemAté 65 μm
Contagem de Camadas2–16 Camadas
Tamanho Máximo do PainelAté 510 × 610 mm
Espessura Típica0.20 – 2.00 mm
Proporção de aspecto do furo perfuradoAté 12: 1
Por meio da estruturaPassagens através do vidro e aberturas personalizadas
MetalizaçãoPersonalizado de acordo com a aplicação
Revestimento de superfícieENIG ou Ouro Pulverizado
Dimensões do substratoPersonaliza a tua
InspeçãoInspeção dimensional, elétrica e visual
Suporte de ProduçãoProdução de protótipos e repetições

A capacidade real de fabricação depende da composição do vidro, da espessura, das dimensões do painel, da estrutura do circuito, do espaçamento entre os furos, da metalização e dos requisitos de acabamento da superfície.

Todas as especificações finais são confirmadas por meio de uma revisão de engenharia específica do projeto.

Da revisão do projeto à produção

Revisão de Engenharia

Avaliamos o material do vidro, a espessura do substrato, as dimensões, a estrutura de interconexão, a metalização, o projeto do circuito e os requisitos de montagem.

Validação de protótipo

Os substratos protótipos são fabricados e inspecionados para verificar dimensões, formação de circuitos, vias, metalização e compatibilidade com a aplicação.

Produção repetida

Os produtos validados passam para a produção controlada, seja em série ou em volume, com requisitos de processo e inspeção definidos.


Perguntas frequentes sobre substratos de vidro

Um substrato de vidro é uma camada fina e plana de vidro usada como material base para dispositivos semicondutores, particularmente em aplicações de embalagem. Ele fornece isolamento elétrico, estabilidade e suporte para componentes como circuitos integrados e microchips.

Substratos de vidro são usados ​​em embalagens de semicondutores devido à sua baixa constante dielétrica, alta planicidade, baixo coeficiente de expansão térmica (CTE) e excelente estabilidade térmica, tornando-os ideais para interconexões de alta densidade e aplicações de alta frequência.

Os substratos de vidro oferecem estabilidade térmica superior, baixa perda dielétrica, maior densidade de E/S e menor empenamento, tornando-os mais adequados para embalagens avançadas e aplicações de alta frequência em comparação com materiais tradicionais, como substratos de silício, orgânicos e cerâmicos.

Through-glass vias (TGV) são interconexões verticais feitas através de um substrato de vidro, permitindo integração de alta densidade em embalagens 3D. A tecnologia TGV aprimora o desempenho reduzindo a perda de sinal e melhorando a dissipação térmica.

O baixo coeficiente de expansão térmica (CTE) dos substratos de vidro é muito semelhante ao do silício, reduzindo o estresse térmico durante os ciclos de aquecimento e resfriamento, melhorando assim a confiabilidade e o desempenho geral do pacote semicondutor.

O substrato de núcleo de vidro da Intel oferece maior densidade de E/S, melhor desempenho térmico e redução de empenamento para encapsulamento baseado em chiplet, permitindo soluções de semicondutores mais eficientes e escaláveis ​​para computação de alto desempenho e aplicações de IA.

Os principais participantes do setor de substratos de vidro incluem Intel, Corning, Absolics, DNP, SKC e TSMC, que lideram o desenvolvimento e a fabricação de substratos de vidro de alto desempenho para aplicações de semicondutores.

Os desafios incluem manter a precisão, atingir espessuras ultrafinas sem comprometer o desempenho, garantir uniformidade na criação de vias através do vidro (TGV) e gerenciar os altos custos de produção associados a técnicas avançadas de padronização de linhas finas.

 A baixa perda dielétrica e a estabilidade de alta frequência dos substratos de vidro os tornam ideais para aplicações 5G e IA. Sua capacidade de interconexão de alta densidade suporta os requisitos complexos dessas tecnologias, permitindo transmissão de sinal mais rápida e processamento eficiente.