Glazen substraten voor uiterst nauwkeurige toepassingen

TGV Glassubstraten

Glazen substraten met doorvoeropeningen in het glas voor verticale elektrische interconnectie en compacte pakketintegratie.

Glaskern substraten

Stijve en vormvaste glaskernoplossingen voor geavanceerde pakketstructuren en meerlaagse interconnecties.

Gemetalliseerde glassubstraten

Op maat gemaakte koperen of metalen circuitstructuren, gevormd op glazen oppervlakken, voor elektronische, sensor- en optische toepassingen.

Op maat gemaakte glazen substraten

Toepassingsspecifieke glassubstraten met aangepaste diktes, afmetingen, via's, metallisatie en circuitpatronen.

Glazen substraten voor geavanceerde elektronische toepassingen

Moderne elektronische en halfgeleiderproducten vereisen stabiele substraatplatforms voor nauwkeurige circuitvorming, laaguitlijning en componentintegratie.

Glas biedt een gladde, stijve en elektrisch isolerende basis die fijne circuits, doorvoeropeningen door het glas en op maat gemaakte metaalstructuren kan ondersteunen.

ALCANTA ontwikkelt oplossingen voor glazen substraten die voldoen aan de mechanische, elektrische, optische en montage-eisen van elke toepassing.

✓ Hoge dimensionale stabiliteit

✓ Glad oppervlak voor nauwkeurige circuitvorming

✓ Mogelijkheid om door het glas heen te kijken

✓ Metaalbewerking en afmetingen op maat

absolics glazen substraat

Oplossingen voor glazen substraten

Verticale verbinding door glas

Doorvoeropeningen in het glas zorgen voor elektrische verbindingen tussen de twee zijden van een glazen substraat en ondersteunen compacte meerlaagse behuizingsstructuren.

Via-afmetingen, spoed, aspectverhouding en metaalcoating worden beoordeeld op basis van de gekozen glasdikte en toepassing.

Typische toepassingen:

  • Geavanceerde halfgeleiderverpakkingen
  • Glazen tussenstukken
  • Multichipmodules

Productiemogelijkheden voor glazen substraten

Basis materiaalToepassingsspecifiek elektronisch glas
Minimale regelafstandTot 10 μm / 10 μm
Minimale Via-diameterTot 65 μm
Aantal lagen2–16 lagen
Maximale paneelgrootteTot 510 × 610 mm
Typische dikte0.20 – 2.00 mm
Aspectverhouding van het geboorde gatTot 12: 1
Via structuurDoorvoeropeningen in glas en op maat gemaakte openingen
MetallisatieAangepast aan de toepassing
OppervlaktebehandelingENIG of gesputterd goud
Substraat afmetingenOp maat
InspectieDimensionale, elektrische en visuele inspectie
Production SupportPrototype en herhaalproductie

De daadwerkelijke productiecapaciteit is afhankelijk van de glassamenstelling, dikte, paneelafmetingen, circuitstructuur, via-afstand, metallisatie en eisen aan de oppervlakteafwerking.

Alle definitieve specificaties worden bevestigd door middel van een projectspecifieke technische beoordeling.

Van ontwerpbeoordeling tot productie

Technische beoordeling

We beoordelen het glasmateriaal, de substraatdikte, de afmetingen, de via-structuur, de metallisatie, het circuitontwerp en de assemblagevereisten.

Validatie van prototypes

Prototypesubstraten worden vervaardigd en geïnspecteerd om de afmetingen, circuitopbouw, via's, metallisatie en toepassingscompatibiliteit te controleren.

Herhaalde productie

Gevalideerde producten worden onder gecontroleerde omstandigheden in herhaalde of massaproductie gebracht, met vastgestelde proces- en inspectievereisten.


Veelgestelde vragen over glazen substraten

Een glassubstraat is een dunne, platte laag glas die wordt gebruikt als basismateriaal voor halfgeleiderapparaten, met name in verpakkingstoepassingen. Het biedt elektrische isolatie, stabiliteit en ondersteuning voor componenten zoals geïntegreerde schakelingen en microchips.

Glassubstraten worden gebruikt in halfgeleiderverpakkingen vanwege hun lage diëlektrische constante, hoge vlakheid, lage thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) en uitstekende thermische stabiliteit. Hierdoor zijn ze ideaal voor verbindingen met een hoge dichtheid en hoogfrequente toepassingen.

Glassubstraten bieden een superieure thermische stabiliteit, een laag diëlektrisch verlies, een hogere I/O-dichtheid en minder kromtrekken. Hierdoor zijn ze geschikter voor geavanceerde verpakkingen en hoogfrequente toepassingen dan traditionele materialen zoals silicium, organische en keramische substraten.

Through-glass vias (TGV) zijn verticale verbindingen die door een glazen substraat heen worden gemaakt, waardoor integratie met hoge dichtheid in 3D-verpakkingen mogelijk is. TGV-technologie verbetert de prestaties door signaalverlies te verminderen en thermische dissipatie te verbeteren.

De lage thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) van glassubstraten komt sterk overeen met die van silicium. Hierdoor wordt de thermische spanning tijdens verwarmings- en afkoelcycli verminderd en worden de algehele betrouwbaarheid en prestaties van de halfgeleiderbehuizing verbeterd.

Het glazen kernsubstraat van Intel biedt een hogere I/O-dichtheid, verbeterde thermische prestaties en minder kromtrekken voor chiplet-gebaseerde behuizingen, wat efficiëntere en schaalbare halfgeleideroplossingen voor high-performance computing en AI-toepassingen mogelijk maakt.

Belangrijke spelers in de glassubstratenindustrie zijn onder meer Intel, Corning, Absolics, DNP, SKC en TSMC. Zij zijn toonaangevend in de ontwikkeling en productie van hoogwaardige glassubstraten voor halfgeleidertoepassingen.

Uitdagingen zijn onder meer het handhaven van de nauwkeurigheid, het realiseren van ultradunne diktes zonder dat dit ten koste gaat van de prestaties, het waarborgen van uniformiteit bij het maken van through-glass vias (TGV) en het beheersen van de hoge productiekosten die gepaard gaan met geavanceerde technieken voor het aanbrengen van fijne lijnen.

 Het lage diëlektrische verlies en de hoge frequentiestabiliteit van glassubstraten maken ze ideaal voor 5G- en AI-toepassingen. Hun high-density interconnect-capaciteit ondersteunt de complexe vereisten van deze technologieën, waardoor snellere signaaloverdracht en efficiënte verwerking mogelijk zijn.