ABF-Substrate für fortschrittliche Halbleitergehäuse

FCBGA-Substrate

Hochdichte ABF-Substratlösungen, entwickelt für Flip-Chip-BGA-Gehäuse, die eine feine Leiterbahnführung und mehrlagige Verbindungen erfordern.

CPU- und GPU-Substrate

Kundenspezifische Aufbausubstratstrukturen für Prozessoren, die eine hohe Verbindungsdichte, zuverlässige Signalweiterleitung und komplexe Schichtkonfigurationen erfordern.

ASIC- und SoC-Substrate

Anwendungsspezifische ABF-Substrate für ASICs, SoCs und andere hochintegrierte Halbleitergehäuse.

Kundenspezifische ABF-Substrate

Kundenspezifische ABF-Substratlösungen, entwickelt unter Berücksichtigung von Gehäuseabmessungen, Schichtstruktur, Schaltungsdichte und elektrischen Anforderungen.

ABF-Substrate für hochdichte elektronische Anwendungen

Moderne Halbleitergehäuse erfordern immer dichtere Verbindungen zwischen den Chipanschlüssen mit feiner Rasterteilung und den Leiterplatten auf Systemebene.

ALCANTA bietet Lösungen für die ABF-Substratfertigung an, die auf Gehäusearchitektur, Leiterbahndichte, Aufbaustruktur, elektrischen Anforderungen und Produktionsbedingungen basieren.

✓ Fähigkeit zur Feinleitungsschaltung

✓ Laser-Mikrovia-Strukturen

✓ Individuell anpassbare Schichtaufbauten

✓ Unterstützung in den Bereichen Entwicklung und Produktion

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ABF-Substratlösungen

Hochdichte Leiterbahnführung

Feinstrukturierte ABF-Substrate unterstützen dichte Schaltungslayouts und kompakte Verbindungsstrukturen für fortschrittliche Halbleitergehäuse.

Typische Anwendungen:

  • CPU- und GPU-Pakete
  • KI-Beschleuniger
  • IC-Gehäuse mit hoher I/O-Anbindung

ABF-Substratfertigungskapazität

ArtikelCapability
MaterialAjinomoto Aufbaufilmsysteme
Zeile / LeerzeichenBis hinunter zu 9 μm / 9 μm
Minimaler Durchmesser der LaserdurchführungBis hinunter zu 55 μm
Ebenenanzahl2–26 Schichten
AufbaustrukturKundenspezifische
Substratdicke0.10 – 3.20 mm
Maximale PanelgrößeBis zu 600 × 600 mm
OberflächenfinishENIG, ENEPIG, OSP
QualitätskontrolleElektrische und Zuverlässigkeitsprüfung

Diese Werte stellen die veröffentlichten Fertigungskapazitäten von BT/ABF für die entsprechenden Konstruktionen dar.

Die tatsächliche Leistungsfähigkeit hängt von der gewählten ABF-Sorte, der Kupferdicke, der Dielektrikumdicke, den Gehäuseabmessungen, der Schichtkonfiguration, der Via-Struktur und der Gesamtkomplexität des Designs ab.

Die endgültigen Spezifikationen werden durch eine projektspezifische technische Prüfung bestätigt.

Von der Designprüfung bis zur Produktion

Technische Überprüfung

Wir bewerten vor Produktionsbeginn die Gehäusestruktur, die Anforderungen an das ABF-Material, die Leiterbahn- und Abstandsführung, die Laserdurchkontaktierungen, den Schichtaufbau und die Fertigungsmachbarkeit.

Prototypenvalidierung

Für kundenspezifische ABF-Substratdesigns werden Prototypenentwicklung, Maßprüfung und elektrische Verifizierung angeboten.

Serienfertigung

Validierte Projekte gehen in die Serien- oder Großserienproduktion über, mit definierten Prozesskontrollen, Inspektionsanforderungen und Produktionsunterstützung.

Häufig gestellte Fragen zu ABF-Substraten

Ein ABF-Substrat ist ein Halbleitergehäusesubstrat, das Ajinomoto Build-up Film als isolierendes Aufbaumaterial verwendet.

Die ABF-Schichten unterstützen die Laser-Via-Bildung, die Kupfermetallisierung und die Feinleitungsführung zwischen Halbleiterchips und Leiterplatten.

ABF steht für Ajinomoto Build-up Film.

Es handelt sich um ein isolierendes Aufbaumaterial, das für Halbleitergehäusesubstrate mit hoher Packungsdichte entwickelt wurde.

ABF-Substrate werden häufig für CPUs, GPUs, KI-Beschleuniger, ASICs, SoCs, Netzwerkprozessoren und andere Halbleitergehäuse mit hohem I/O-Anteil verwendet.

ABF ermöglicht die Herstellung feinster Schaltungen, die Bearbeitung von Laser-Mikrovias und den Aufbau mehrschichtiger Strukturen.

Diese Eigenschaften machen es geeignet für anspruchsvolle Gehäuse, die eine dichte Leiterbahnführung und eine hohe Anzahl von Chipverbindungen erfordern.

Ja. ALCANTA bewertet kundenspezifische ABF-Substrate anhand von Gehäuseabmessungen, Lagenanzahl, Aufbaustruktur, Schaltungsdichte, Via-Konfiguration und elektrischen Anforderungen.

ALCANTA unterstützt Linien- und Zwischenraumstrukturen bis hinunter zu 9 μm / 9 μm für geeignete ABF-Substratdesigns.

Die endgültige Leistungsfähigkeit hängt von der Materialgüte, der Kupferdicke, dem Schichtaufbau, den Substratabmessungen und der Komplexität des Designs ab.

Laserdurchführungen mit Durchmessern bis hinunter zu 55 μm können auf geeignete Konstruktionen hin untersucht werden.

Der erreichbare Durchmesser hängt von der Dicke des ABF-Dielektrikums, der Via-Struktur, dem Aspektverhältnis und den Anforderungen an die Kupferplattierung ab.

Kunden wird empfohlen, Folgendes anzugeben:

Gerber- oder ODB++-Dateien
Paket Abmessungen
Lagenanzahl und Schichtaufbau
ABF-Materialbedarf
Mindestzeilen- und -abstand
Laser über Durchmesser
Kupferdicke
Oberflächengüte
Prototypen- und Serienmengen

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